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新方法改善了半導體工藝步驟中的蒸汽輸送問題

來源：上海自動化儀表有限公司作者：發表時間：2018-04-23 09:51:47【小中大】

等離子體刻蝕和光刻膠剝離工藝是前端（FEOL）半導體制造步驟中的關鍵點。這些工藝會留下不需要的聚合物殘留物，這些殘留物是在這些蝕刻和剝離步驟中使用的侵蝕性化學物質的副產品。

幾十年來，上海自動化儀表有限公司用于促進去除這些殘余物的技術之一是在等離子體化學中引入超純的去離子水蒸氣。幾乎與半導體制造的所有方面一樣，非常注意控制每個工藝步驟中的變量，以幫助確保最高水平的均勻性和微芯片產量。

這包括盡最大可能控制殘留物去除過程中使用的水蒸汽的體積，流量和純度。上海自動化儀表有限公司最近推出了一種新型蒸氣流量計，該流量計采用獨特的蒸氣傳輸技術方法，比同類蒸氣傳輸系統的精確性和重復性高30倍。

解決方案：恒定輸送壓力（DP）

基于經過驗證的熱質量流量測量技術和現場驗證的可靠蒸汽流量計，該產品通過精確和可重復的水蒸汽流量輸送降低了過程變化，并提供了更寬的控制范圍。

蒸汽流量計在非過熱蒸汽階段在鈍化鈦容器中產生蒸汽。水庫含有去離子（DI）水，加熱到嚴格控制的范圍：90.7±3°C。

由于溫度保持非常穩定，流量計室的上部包含恒定的非過熱蒸汽。反過來，油箱的蒸汽壓力也被精確控制：從487-611托。通過集成到流量計中的質量流量控制器（MFC）將蒸氣輸送到真空室，并使用我們行業領先的GF100系列MFC使用的相同的超精密熱質量流量控制信號處理和校準技術。

這種設計使得蒸汽流量計可以通過在MFC上保持恒定的DP來實現穩定的流量：

進口MFC水蒸氣壓力是罐溫度的函數

進入真空室的出口MFC壓力由室/管線壓力決定

這種技術方法使蒸汽流量計能夠提供業界最佳的蒸汽輸送精度和可重復性：±1％SP流量精度，被評為比競爭蒸汽輸送系統更精確。

該技術產生化學純的水蒸氣，不含分解副產物或其他污染物。實質上，蒸汽流量計不斷“蒸餾”DI水蒸氣，同時保持恒定的蒸汽壓力進入MFC。此外，鈍化鈦罐和UHP 316L SS“濕路徑”結構材料有助于減少非揮發性污染物進入處理室的可能性。

結果：需要使用去離子水蒸汽的半導體光刻膠條和聚合物殘渣去除工藝具有當今要求最嚴格的半導體制造工藝所要求的準確性，可重復性和清潔度水平。

最新一代的蒸氣流量計結合最高的精度，可重復性和更寬的控制范圍，為用戶提供最廣泛的工藝配方靈活性，以滿足他們的獨特需求。它還具有EtherCAT®通信功能，可提供支持下一代工藝設備平臺的增強型高速數字通信。